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GSL-1100X-15E是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如 Al. Mg, 和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理，Z大可處理的樣品直徑為50mm.。
GSL-1800X-ZF4是一款高真空的蒸發鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭.對于實驗研究，這是一款鍍膜效果理想并且性價比較高的實驗設備。
OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發管式爐，專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11" OD，爐管內載樣盤可放置3" 的圓形或2"x2"的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體的頂端和底部，其升溫速率高達20?C/S 。溫控系統為PID30段程序化控制，控溫精度為+/-1?C。儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導出
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