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高真空蒸發鍍膜儀應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是*的一項技術。由真空鍍膜室、蒸發源、真空機組、卡具、蒸發電源、控制系統與輔助裝置等組成。高真空蒸發鍍膜儀主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。在高真空蒸發鍍膜儀的使用中，有3大要素是需要用戶特別留意：清潔真空鍍膜機每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。方法是：用燒堿（NaOH）飽和溶液反...

等離子鍍膜設備是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。等離子鍍膜設備優勢：1、AF噴涂設備采用原裝德國進口納米噴頭，噴頭采用高低壓轉換霧化設計，使液態分子極精細，且不影響藥水效果；2、鋨存儲器可拆卸：具有密封式結構，可冷凍保存；3、理論設計產能3000片-4000片/小時；4、噴嘴運...

真空管式爐是在真空環境中進行加熱的設備，一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空系統、供電系統和控溫系統等組成。真空爐按加熱元件分為真空電阻爐、真空感應爐、真空電弧爐、真空自耗電弧爐、電子束爐和等離子爐等。真空管式爐一般在春秋季節泄漏故障較多，長期閑置的真空爐在才次使用時真空爐泄漏故障比較易發生。這時間就必須進行真空檢漏，真空檢漏一般采取每月一次測壓升率(在常溫下，關閉所有真空閥，停止真空系統運轉，1Omin后讀一個數，1h后再讀一個數，兩數之差是壓升率的數值)，掌握設備泄漏變化...

小型真空管式爐的成套供應范圍有溫度控制器、熱電偶、補償導線等。溫度控制有繼電器控制、可控硅控制二種，由于是間歇式作業爐，一般都采用40段PlD可編程控制，能嚴格控制產品的燒制過程。小型真空管式爐安裝注意事項1、電爐不需特殊安裝,只需平放在室內地面或臺架上。控制器應放在工作臺上，工作臺面的傾斜度不得超過5度。控制器離電爐zui小距離不得少于0.5米。控制器不宜放在電爐上面，以免影響控制器正常工作。2、檢查接線無誤后即可通電，首先合上電源開關,然后將控制器面板上的鈕子開關拔向開的...

小型真空管式爐均系周期作業式。供實驗室、工礦企業、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。其特點是安全可靠、節能、升降溫度速度快、耗能低、使用壽命。小型真空管式爐在使用的時候，為了保證其使用壽命，需要注意以下細節，一起來看看吧！1、爐子使用或長時間不用后，要在120℃左右烘烤1小時，在300℃左右烘烤2小時后使用，以免造成爐膛開裂。爐溫盡量不要超過額定溫度，以免損壞加熱元件及爐襯。禁止向爐膛內直接灌注各種液體及溶解金屬，保持爐內的清潔...

開啟式管式爐是管試爐的一種，集控制系統與爐膛為一體。石英玻璃管橫穿于爐體中間作為的爐膛，爐管兩端用不銹鋼法蘭密封，工件式樣在管中加熱，加熱元件與爐管平行，均勻的分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。上蓋開啟式結構方便客戶對特殊材料的裝載，燒制和觀察，并有助于快速升降溫。開啟式管式爐分單溫區，雙溫區，三溫區，四溫區，五溫區。開啟式管式爐的安裝細節1.本系列電爐不需特殊安裝，室內平整的地面或工作臺上均可安放。但配套的控制器應避免震動，放置位置與實驗電爐不宜太近，防止過熱而影響控...

小型真空管式爐的真空氣氛系統采用特種設計技術，具有操作安全、方便、真空度高，密封性好，真空保持時間長，密封采用不銹鋼金屬法蘭及O型耐高溫氟膠圈密封，氣體經過流量計后由針型閥開關進入爐管內，閥控配有進氣閥，排氣、抽真空閥。減壓閥，安全閥，可通多種氣體、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，可充入高壓氣體，氣氛壓力極限值0.1MPa，采用*的密封技術，可長時間保壓，安全性能好，操作方便。經實踐表明，小型真空管式爐是可以惰性氣體作為工作氣體，只是有些特別的地方需要注意：1.接...