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噴涂一直存在于我們的生活中，長期以來被用于多種用途，包括噴涂裝飾性和保護性涂料。因此，它是材料科學家制備薄膜的又一工具。在噴涂中，噴嘴尺寸、噴涂形狀、噴嘴到基材的距離、噴涂速度和噴涂過程中基材的加熱都是可控的參數，以達到理想效果。使用超聲波霧化模塊，可使噴霧溶液均質化，霧滴大小得到有效控制（噴嘴頻率會影響霧滴大?。?，可分布微霧量，從而保證成分和結構的均勻性和所得薄膜和圖案的準確性。材料浪費保持在低限度，設備操作人員的風險很小。超聲波霧化模塊的工作原理是利用超聲波換能器將高頻聲...

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成...

直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一種小型直流（DC）等離子磁控濺射鍍膜系統，該系統包括所有必需的附件，如500W（600V）直流電源、2英寸磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。主要由濺射真空室、磁控濺射靶材、樣品臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機和真空測量裝置組成。高真空濺射可用于制備金屬、半導體、絕緣體等薄膜材料。具有設備簡單、易控制、涂布面積大、附著力強等優點，可用于大專院校和科研院所的薄膜材料的研究和制備。直流等離子磁控濺射鍍膜儀濺射鍍膜的原理是異常輝光放電中的稀有氣體產...

采用新型保溫材料的箱式爐具有體積小、重量輕、保溫效果好、升溫速度快等優點。面板材質為不銹鋼；外形美觀，操作簡單，維護方便，爐后設有可控煙囪；適用于煤、焦化產品和化工原料的化學分析。五面加熱（左、右、前、后、下）可獲得均勻的溫度場。1、雙熱電偶雙儀表控溫檢測，確保不發生超溫實驗事故。2、爐膛材料采用高純氧化鋁纖維（表面涂有美國進口高溫氧化鋁涂層，可提高加熱效率、反射率、爐膛清潔度，延長使用壽命）。3、采用雙層殼體結構和風冷系統，使殼體表面溫度低于60℃。4、爐體頂部有排氣孔，可...

等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、蝕刻、等離子電鍍、等離子鍍膜、等離子灰化和表面改性。通過它的處理，可以提高材料表面的潤濕性，從而可以對多種材料進行涂層、電鍍等操作，增強附著力和結合力，同時去除有機污染物、油或油脂。等離子清洗裝置包括四個主要部件：激發電源、真空泵、真空室和反應氣源。激勵源是為氣體放電提供能量的電源，可以采用不同的頻率；真空泵的主要作用是去除副產品，包括旋片機械泵或增壓泵；以及在真空室中進行放電電離的電極。反應氣體轉化為等離子體。反應氣體通常為氬氣、氧氣、氫氣...

涂覆機的使用和維護能否穩定可靠地運行已經成為設備維護人員關注的焦點，涂覆機的清洗也受到用戶的關注。涂覆機的清洗方法主要有三種:一、傳統的清洗方法。用二氯甲烷、DMF等揮發性溶劑清洗混合頭。這種方法清洗*，成本低，但最大的問題是污染環境。因為是化學品，揮發性，有毒，不可回收，違背了現在提倡的綠色環保趨勢，所以使用有限，逐漸不被市場接受，慢慢淘汰。二、高壓水清洗。雖然這種方法無毒、成本低、操作簡單，但行業內普遍存在清洗不*的問題;同時，高壓水清洗會浪費水資源，產生大量工業廢水，不...

研磨拋光機系列主要用于石英晶體片、硅片、鍺片、LCD光學鏡片、led藍寶石基板、藍寶石手機玻璃窗、石英基板、投影儀玻璃平臺、印刷電路曝光玻璃板、陶瓷片、功能陶瓷基板、陶瓷、CNC刀片、時鐘玻璃、外殼表面、背光導光板、手機五金件、后視鏡、電磁爐微晶玻璃、ITO導電玻璃太陽能電池硅片、大理石平臺、活塞環、移印鋼板、金屬閥片、peek閥片、陶瓷閥片、硬質合金密封圈及各種泵用機械密封（碳化硅、碳化鎢和石墨）、高速鋼和鎢刀片、縱切刀片、銅、鋁片,鉬片,不銹鋼片,塑膠模具鋼,五金裝飾板,...