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OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition） （等離子體化學氣相沉積）滑動式開啟式管式爐系統(tǒng)。此套設備帶有300W的等離子射頻電源，一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和機械泵組成。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD 系統(tǒng)。對于有限的經(jīng)費的情況下來進行材料探
4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）， 內(nèi)爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。
OTF1100X11Z3LV CVD system consists of 11" diameter three zone tube furnace with mechanical vacuum pump system (up to 10-2 torr ) and 6 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of gases for CVD or diffusion
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