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Se-KTQ-150D是一款雙刮刀的可調制膜器，由于有兩個刮刀所以涂覆效果會更加均勻。操作者可通過千分尺來調節刮刀與所涂覆平面之間的間隙，此工具特別適合實驗室制作電池電極，陶瓷膜前期的生瓷帶及各種薄膜。

VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺，外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵。

PTL-SC-6是一款自動連續離子層吸收反應（SIAR）制膜系統，與手動操作相比，避免了實驗中的人為誤差，因為SIAR制膜法需多次對樣品進行重復提拉，所以手動很難控制其提拉的重復性。此款設備采用自動化控制，客戶可設置提拉速度、循環次數和時間。 PTL-SC-6擁有6個可程序設置的樣品臺，可設置浸漬速度、浸漬時間、提取速度，干燥時間以及加熱溫度（Z高溫度可達到80℃）。此款設備專門這對于

OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材料相轉變和微結構性能。

OTF-1500X-VHP4是一款真空熱壓機，可對材料在真空（或氣氛保護）及高溫的環境下進行加壓，如把粉末壓成塊狀，或將多層晶片壓合在一起（擴散實驗）。此款儀器Z高溫度可達到1500℃，在此溫度下可對樣品施加的壓力為5T。儀器爐體設計為開啟式，爐管采用美國進口的莫來石管，模具為石墨模具，加壓裝置為一20T的電動壓機。爐子Z高溫度可以達到1500℃，可設置30段升降溫程序。

OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁鐵推動坩堝移動的管式爐。其爐管直徑為50mm,Z高工作溫度為1200℃。本公司設計此款管式爐主要是為了在各種氣氛環境下用蒸發性沉積方法（DVD）來制取2維薄膜，或對材料進行快速熱處理。