多功能試樣表面處理機(jī)是一種用于掃描電鏡和電子探針的樣品制備設(shè)備，可用于真空碳蒸鍍、真空鍍膜和離子濺射，在高純氬氣保護(hù)下也可用于各種離子處理。本設(shè)備處理后的樣品既可用于樣品的外觀觀察，也可用于成分分析，尤其是成分的定量分析。本儀器配備機(jī)械泵和分子泵，分子泵系統(tǒng)特別適用于對(duì)真空度要求高、真空環(huán)境好的用戶。

　　

　　多功能試樣表面處理機(jī)將硅片放入真空反應(yīng)系統(tǒng)，通入少量氧氣，加1500V高壓，高頻信號(hào)發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號(hào)，從而形成強(qiáng)電磁場(chǎng)石英管中，氧氣被電離，形成由氧離子、活性氧原子、氧分子和電子混合而成的等離子體輝光柱。活性氧（活性原子氧）能迅速將聚酰亞胺薄膜氧化成揮發(fā)性氣體，通過(guò)機(jī)械泵抽走，從而去除硅片上的聚酰亞胺薄膜。等離子脫膠的優(yōu)點(diǎn)是脫膠操作簡(jiǎn)單，脫膠效率高，表面清潔光滑，無(wú)劃痕，成本低，環(huán)保。

　　

　　在并聯(lián)電極反應(yīng)器中，反應(yīng)離子刻蝕室采用非對(duì)稱(chēng)設(shè)計(jì)，陰極面積小，陽(yáng)極面積大，被蝕刻物放置在面積較小的電極上。在射頻電源產(chǎn)生的熱運(yùn)動(dòng)下，帶負(fù)電的自由電子質(zhì)量小，運(yùn)動(dòng)速度快，迅速到達(dá)陰極；正離子由于質(zhì)量大，速度慢，不能同時(shí)到達(dá)陰極，從而在陰極附近形成帶負(fù)電的鞘層。在鞘層的加速作用下，正離子垂直轟擊硅表面，加速硅表面的化學(xué)反應(yīng)和反應(yīng)產(chǎn)物的分離，產(chǎn)生很高的刻蝕速率。離子轟擊也可以實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，與等離子脫脂、等離子刻蝕相同，區(qū)別在于反應(yīng)氣體的種類(lèi)和等離子體的激發(fā)方式。

　　

　　對(duì)于制膜，多功能試樣表面處理機(jī)可以設(shè)置三種模式：

　　

　　1、一種模式專(zhuān)門(mén)用于蒸鍍

　　

　　本儀器可同時(shí)蒸發(fā)兩種物料，最高溫度可達(dá)1800℃

　　

　　鎢絲加熱

　　

　　2、碳蒸發(fā)鍍膜方式

　　

　　該儀器包括兩組碳棒

　　

　　3、DC等離子濺射模式儀器含金靶(38mmdiax0.2mmt)