靶磁控濺射儀在真空狀態(tài)下采用電弧放電和輝光放電工作原理，金屬和非金屬工件的表面鍍有金氮化鈦，黑碳化鈦，彩色氮氧化鈦等，也可以涂防腐膜（如AL，Cr不銹鋼和TiN等）和耐磨膜，膜層牢固地結(jié)合到基板上。濺射工藝用于涂覆以改善膜的粘附性，可重復(fù)性，密度和均勻性度等特點(diǎn)，適用于塑料制品，陶瓷，樹脂，水晶玻璃制品，工藝品，塑料手機(jī)殼，電子產(chǎn)品，建材等行業(yè)，具有良好的發(fā)展前景。

　　靶磁控濺射儀處理六個(gè)常見問題及改進(jìn)對(duì)策：

　　1、漆膜為黑色和黑色

　　（1）真空度小于0.67Pa。真空度應(yīng)提高到0.13-0.4Pa。

　　（2）氬氣的純度小于99.9％。應(yīng)該用純度為99.99％的氬氣代替。

　　（3）充氣系統(tǒng)正在泄漏。應(yīng)檢查充氣系統(tǒng)以消除空氣泄漏。

　　（4）底漆未充分固化。底漆的固化時(shí)間應(yīng)適當(dāng)延長。

　　（5）鍍層零件的脫氣量太大。應(yīng)當(dāng)進(jìn)行干燥和密封處理。

　　2、膜層的表面光澤較暗

　　（1）底漆固化不良或變質(zhì)。底漆的固化時(shí)間應(yīng)適當(dāng)延長或應(yīng)更換底漆。

　　（2）濺射時(shí)間過長。應(yīng)適當(dāng)縮短。

　　（3）濺射成膜速度過快。濺射電流或?yàn)R射電壓應(yīng)適當(dāng)降低

　　3、薄膜顏色不均勻

　　（1）底漆噴涂不均勻。底漆的使用方法應(yīng)加以改進(jìn)。

　　（2）薄膜層太薄。適當(dāng)?shù)卦黾訛R射速度或延長濺射時(shí)間。

　　（3）燈具設(shè)計(jì)不合理。夾具設(shè)計(jì)應(yīng)加以改進(jìn)。

　　（4）電鍍零件的幾何形狀太復(fù)雜。鍍層零件的旋轉(zhuǎn)速度應(yīng)適當(dāng)提高。

　　4、薄膜起皺并破裂

　　（1）底漆噴涂得太厚。應(yīng)控制在7-10tan厚度范圍內(nèi)。

　　（2）涂料的粘度太高。應(yīng)適當(dāng)減少。

　　（3）蒸發(fā)速度太快。應(yīng)該適當(dāng)放慢速度。

　　（4）膜層太厚。濺射時(shí)間應(yīng)適當(dāng)縮短。

　　（5）鍍層部分的溫度太高。鍍層部件的加熱時(shí)間應(yīng)適當(dāng)縮短。

　　5、薄膜表面上有水印，指印和灰塵顆粒。

　　（1）清潔后，鍍層部件不帶電。應(yīng)加強(qiáng)鍍前處理。

　　（2）水滴或唾液濺到電鍍部件的表面。要加強(qiáng)文明生產(chǎn)，操作人員要戴口罩。

　　（3）涂上底漆后，用手觸摸鍍層部分，在表面上留下指紋。嚴(yán)禁用手觸摸鍍層部件的表面。

　　（4）油漆中有顆粒。油漆應(yīng)過濾或更換。

　　（5）靜電除塵器發(fā)生故障，或者在噴涂和固化環(huán)境中出現(xiàn)顆粒灰塵。應(yīng)更換集塵器，并保持工作環(huán)境清潔

　　6、靶磁控濺射儀膜的附著力差

　　（1）鍍層零件的脫脂和脫脂未完成。應(yīng)加強(qiáng)鍍前處理。

　　（2）真空室不干凈。應(yīng)當(dāng)清潔真空室。值得注意的是，在裝卸靶材過程中，嚴(yán)禁用手或不潔物體接觸磁控管源，以確保磁控管源具有較高的清潔度，這對(duì)于提高結(jié)合力非常重要。電影的措施之一。

　　（3）夾具不干凈。夾具應(yīng)清潔。

　　（4）底漆選擇不當(dāng)。應(yīng)更換油漆。

　　（5）濺射工藝條件控制不當(dāng)。濺射工藝條件應(yīng)改善。